中国超分辨率光刻机到底有多牛？中国超分辨率光刻机：未来可加工10nm芯片，芯片，分辨率，中国，分辨力，装备，项目，验收，光刻，中国超分辨率光刻机到底有多牛?中国超分辨率光刻机：未来可加工10nm芯片11月30日消息，据媒体报道，由中国科学院光电技术研究所主导的项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。专家表示，该光刻机在365nm光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22nm。...
2018-11-30 23:43:00教程分辨率 芯片 中国
